募集要項

募集職種

【神奈川】ArFレジストの開発

仕事内容

【職務概要】
同社にて下記業務をお任せいたします。

【職務詳細】
主な業務としては以下となります。
・レジストの特性改善につながる新規素材の設計・合成・スケールアップ
・レジスト用ポリマーの重合
・レジスト開発（フォーミュレーション、顧客対応、レジスト製造、GAL製造など）
・顧客や、他部署、他部門と議論し、顧客要望の実施、および課題解決
・勤務地は相模事業所
・レジスト開発要員は、海外勤務の可能性もあり（韓国事業所出向にて開発業務）

【同社の魅力】
今後情報社会が進む中、5Gやデータセンター向けの半導体需要が加速しています。同社は、長年蓄積してきた「微細加工技術」と「高純度化技術」をもって半導体製造関連の材料および、装置の開発・製造を国内・海外にて展開してきました。その中でもフォトレジストでは世界トップレベルのシェアを築いています。

雇用形態

正社員（中途）

応募資格

【必須】
・化学系の大学 or 大学院卒もしくは化学系企業での開発経験
・低分子化合物の合成経験、高分子重合（好ましくはそれらの量産経験）
・半導体材料・電子材料に使用される化学薬品の取り扱い経験

【尚可】
・語学力（特に英語）
・量子計算化学・データサイエンス
・各種分析経験（ex. HPLC、GPC、NMR）　

勤務地

神奈川県高座郡寒川町田端1590

勤務時間

標準就業時間8：30～17：15（フレックスタイム制有：コアタイム10時～15時）

想定給与

■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇

待遇・福利厚生

通勤手当、家族手当、住居手当、健康保険、厚生年金保険、雇用保険、労災保険、厚生年金基金、退職金制度、社員持株会、住宅援助金制度、独身寮、社宅、育児休職制度ほか

休日・休暇

休日日数121日、完全週休2日制（土・日）、祝日、年末年始休暇、年次有給休暇（入社半年経過後 15日～最高20日）、慶弔休暇など