募集要項

募集職種

【埼玉】研究員 (EUV・NIL)（朝霞）

仕事内容

同社にて下記のような研究開発業務を、スキルや適性に応じてご担当いただきます。また、研究開発にとどまらず、他部門と連携し製造現場へのプロセスの落とし込みまで携わっていただきます。海外顧客、装置や材料メーカーとのやり取り、海外他拠点の技術員との連携を推進しています。

【職務詳細】
■製品：先端マスク及びナノインプリント
■範囲：材料開発～技術移管

【具体的には】
（１）先端マスク、特にEUVマスク向けの材料、プロセス、
　　　後工程装置の研究開発
・シミュレーションを用いた次世代フォトマスク材料設計／開発／特許化。
・次世代フォトマスクブランクス／レジスト／導電膜等の開発／特許化。
・次世代フォトマスク用装置の選定／導入／プロセス立上げ／技術移管。
・フォトマスク及びフォトマスク用材料の計測／分析。
・統計手法及び機械学習を用いたプロセス開発／最適化／技術移管。

（2）ナノインプリント向けの材料、プロセス、装置の研究開発
・ナノインプリントの材料設計／開発／特許化。
・ナノインプリント用装置の選定／導入／プロセス立上げ／技術移管。

雇用形態

正社員（中途）

応募資格

【必須】
・研究開発業務経験者・研究開発業務に興味がある方
・チーム内及び他部署との連携スムーズに行える方
・海外と関わりのある業務に積極的、少なくとも抵抗が無い方。

【尚可】
・TOEIC500点以上

勤務地

埼玉県新座市野火止7-21-33

勤務時間

9時00分～18時00分

想定給与

■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇

待遇・福利厚生

通勤手当、家族手当（お子様一人当たり20,000円／月（人数上限なし））、退職金、財形貯蓄制度、財形融資制度、育児休業制度、介護休業・介護勤務時間短縮制度、持株制度、保養所、診療所

休日・休暇

【年間休日126日】完全週休2日制(土日）、祝日、創立記念日、年末年始休暇（6日間）、夏季連続休暇（9日間）、メモリアル休暇、半日休暇制度など